產(chǎn)品列表
異質(zhì)結(jié)高效電池(HJT、HIT)制絨清洗設(shè)備—華林科納CSE 設(shè)備用途： 對高效太陽能電池異質(zhì)結(jié)電池片進行制絨、清洗設(shè)備工藝流程：l H2O2工藝：SC1處理→純水清洗→去損傷→純水清洗→制絨→純水清洗→純水清洗→PSC1→純水清洗→化學拋光(HNO3)→純水清洗→SC2處理→純水清洗→氫氟酸洗→純水清洗→預(yù)脫水→烘干l O3工藝：預(yù)清洗(O3)→純水清洗→去損傷→純水清洗→制絨→純水清洗→純水清洗→PSC1→純水清洗→化學拋光(O3)→純水清洗→SC2處理→純水清洗→氫氟酸洗→純水清洗→預(yù)脫水→烘干技術(shù)特點：l 兼容MES、UPS和RFID功能l 機械手分配合理，有效避免藥液交叉污染和槽體反應(yīng)超時l 結(jié)構(gòu)布局緊湊合理并且采用雙層槽結(jié)構(gòu)，設(shè)備占地空間小l 先進的400片結(jié)構(gòu)，有效提高設(shè)備工藝產(chǎn)能l 工藝槽體采用“定排定補”模式和“時間補液”模式相結(jié)合，有效延長藥液使用壽命和減少換液周期l 補配液采用槽內(nèi)與補液罐雙磁致伸縮流量計線性檢測，以及可調(diào)節(jié)氣閥控流結(jié)構(gòu)，有效保證初配時間和微量精補配液的精度l 所有與液體接觸材料優(yōu)化升級，避免材料使用雜質(zhì)析出l 采用最新低溫烘干技術(shù)，保證槽內(nèi)潔凈度和溫度控制精度技術(shù)參數(shù)：l 設(shè)備尺寸（mm）：26600(L)*2800(W)*2570(H)l Uptime：≥95%l 破片率：≤0.05%l MTTR：4hl MTBF：450hl 產(chǎn)能：6000pcs/hl 功率消耗：398KW更多異質(zhì)結(jié)高效電池制絨清洗相關(guān)設(shè)備，可以關(guān)注網(wǎng)址：http://www.126xa.cn，熱線：400-8768-096，18913575037
單腔立式甩干機-華林科納CSE華林科納（江蘇）CSE-單腔立式甩干機系統(tǒng)應(yīng)用于各種清洗和干燥工藝設(shè)備名稱華林科納（江蘇）CSE-單腔立式甩干機優(yōu) 點 清洗系統(tǒng)應(yīng)用于各種清洗和干燥工藝 不同配置（可放置臺面操作的設(shè)備、單臺獨立、雙腔） 適用于晶圓尺寸至200mm 最佳的占地，設(shè)備帶有滾輪可移動 優(yōu)越的可靠性 獨特的模塊化結(jié)構(gòu) 極其便于維修 易于使用和操作一般特征 適用于晶圓直徑至200mm 25片晶圓單盒工藝 標準的高邊和低邊花籃 可選內(nèi)置電阻率檢測傳感器來控制晶圓的清洗工藝 用冷或熱的N2輔助晶圓干燥 離心頭容易更換 圖形化的界面： 基于PLC的彩色5.7“的觸摸屏 可以編輯10多個菜單，每個菜單可有10步 多等級用戶密 去靜電裝置安裝于工藝腔室區(qū) 去離子水回收 電阻率監(jiān)測裝置 機械手自動加載 可放置臺面操作的設(shè)備、單臺獨立、雙腔 SECS/GEM 去離子水加熱系統(tǒng) 底座置放不銹鋼滾輪 溶劑滅火裝置 適用特殊設(shè)計的花籃設(shè)備制造商華林科納（江蘇）半導體設(shè)備有限公司 www.126xa.cn 0513-87733829；更多的單腔立式甩干機設(shè)備相關(guān)資訊可以關(guān)注華林科納CSE官網(wǎng)（www.126xa.cn），現(xiàn)在熱線咨詢400-8798096可立即獲取免費的半導體清洗解決方案。
![PP通風柜---華林科納CSE]( "PP通風柜---華林科納CSE")
PP通風櫥---華林科納CSE華林科納（江蘇）半導體CSE-PP通風柜 專為氫氟酸及硝化類濃酸設(shè)計的實驗室通風櫥，克服了傳統(tǒng)通風柜在高溫濃酸環(huán)境下易生銹、變黃、龜裂等缺陷，具有的耐酸堿性能。適用行業(yè)：適用于各類研究實驗室---半導體實驗室、藥物實驗室 【產(chǎn)品描述】設(shè)備名稱華林科納（江蘇）CSE-PP通風柜產(chǎn)品描述【柜體】：采用厚8-12mm瓷白色PP制作，耐酸堿性能優(yōu)異。經(jīng)CNC精確裁切加工后，同色同質(zhì)焊條熔焊修飾處理，表面無銳角。【上部柜體】：排氣柜采用頂罩式抽氣設(shè)計,設(shè)計有1個∮250mm排風口。導流板采用同質(zhì)PP材料制作，耐酸堿性能優(yōu)異。安裝尺寸科學合理，無氣流死角，獲取最大的廢氣捕捉性能。【操作臺面】：臺面采用12mmPP板制作，耐酸堿性能優(yōu)異。通風柜臺面上水槽根據(jù)用戶要求配置。【下部柜體】：儲物柜體，中間加一層隔板。鉸鏈采用黑色塑料鉸鏈，耐腐蝕性能好。拉手采用同質(zhì)C型PP拉手。【調(diào)節(jié)門】1. 調(diào)節(jié)門玻璃：采用厚4mm透明亞克力玻璃制作，耐酸堿性能優(yōu)異。2.調(diào)節(jié)門邊框：為厚瓷白色PP板c型槽，嵌入式結(jié)合，以確保安全及耐用性。 3.調(diào)節(jié)門懸吊鋼索：每臺通風柜調(diào)節(jié)門鋼索連接。4.調(diào)節(jié)門平衡配重：采無段式配重箱設(shè)計，其上下行程具靜音軌道予以限制避免搖晃碰撞?！倦娖髟O(shè)備】1.開關(guān)：按鈕帶燈式自鎖開關(guān)，包含風機開關(guān)，照明開關(guān)，總電源開關(guān)。2.照明設(shè)備：采用全罩式三防燈具，燈罩內(nèi)具220v*20w*23.插座部分：每臺通風柜裝設(shè)帶防濺蓋220V10A 電源插座2個。設(shè)備制造商華林科納（江蘇）半導體設(shè)備有限公司 www.126xa.cn 400-8768-096；18913575037【詳細參數(shù)】產(chǎn)品名稱PP通風櫥產(chǎn)品型號PPFG-120PPFG-150PPFG-180外形尺寸（L×W×H）1...
甩干機—華林科納CSESpin-dry machine 設(shè)備名稱CSE-甩干機主要功能晶圓或器件的清洗甩干腔體數(shù)量單腔/雙腔/四腔尺寸(參考)約L×D×H＝面寬480mm×縱深820mm×高度1750mm清洗件規(guī)格4寸/5/寸6寸/8寸等尺寸晶圓或器件操作流程人工上貨→DI噴洗加轉(zhuǎn)子旋轉(zhuǎn)→HOTN2吹干加轉(zhuǎn)子旋轉(zhuǎn)→加速旋干含艙體加熱保溫→完成設(shè)備預(yù)設(shè)之制程結(jié)束。工作轉(zhuǎn)速300—2400r/min主體構(gòu)造特點外觀材質(zhì)：本體以W-PP10t板材質(zhì)組焊組合。設(shè)備骨架：SUS25*25*1.2T骨架組合，結(jié)構(gòu)強固。作業(yè)視窗：視窗采透明壓克力材質(zhì)，有效掌握作業(yè)情況。管路系統(tǒng)：OneChamber模塊化。排風系統(tǒng)：間接式抽風設(shè)計，有效穩(wěn)定空氣擾流，并同時減低異味。機臺支腳：具高低調(diào)整及鎖定功能。機臺正壓保護：采N2正壓保護。機臺微塵控制量：無刷伺服電機去靜電 氮氣控制單元1)管件閥門：SMC電磁閥、PFA高純管件、PTFE氣動閥門。2)氮氣加熱功能：不銹鋼加熱器在線加熱3)低壓氮氣功能：待機時，保持腔內(nèi)正壓，防止污染。DIW控制單元1)采用旋流式?jīng)_洗噴嘴。2)排水口安裝電阻率探頭，對腔體排水水質(zhì)進行監(jiān)測。3)沖洗工藝完成后，氮氣將殘留在沖洗管路內(nèi)的去離子水吹凈。4)待機時，保持回水盒內(nèi)有水流入且流量可調(diào)。電控單元及軟件系統(tǒng)1）控制器操作界面：5.7”記憶人機+PLC可程序自動化控制器(人機TouchScreen)。2）軟件功能：編輯/儲存：制程/維修/警示/編輯/配方/，皆可從操作熒幕上修改。3）儲存能力：記憶模塊：參數(shù)記憶，配方設(shè)定。 更多的甩干機清洗相關(guān)設(shè)備，可以關(guān)注http://www.126xa.cn ,0513-87733829
半導體兆聲清洗機—華林科納CSE Mega sonic cleaning machine華林科納CSE-兆聲清洗機 適用于硅晶片 藍寶石晶片 砷化鎵晶片 磷化銦晶片 碳化硅晶片 石英晶片可處理晶片尺寸2'-8'；可處理晶圓材料：硅 砷化鎵 磷化銦 氮化鎵 碳化硅 鈮酸鋰 鉭酸鋰等；主要應(yīng)用領(lǐng)域：半導體 太陽能光伏 液晶等 設(shè)備名稱CSE-兆聲清洗機類型槽式尺寸(參考)約3500（L）×1350 (W)×2300mm (H)清洗件規(guī)格4” 2籃50片設(shè)備凈重1T運行重量1.5T±10%電源380v 50hz 功率70kw槽體尺寸200mm*400mm*260mm槽數(shù)6個操作方式手動/半自動/全自動適用規(guī)格2英寸-8英寸適用領(lǐng)域半導體、太陽能、液晶等 設(shè)備穩(wěn)定性1、清洗良品率≥99%2、≥0.2um顆粒少于10顆 產(chǎn)品簡介1設(shè)備機架采用不銹鋼骨架外包PP板，耐酸堿腐蝕；2電氣區(qū)設(shè)置在設(shè)備后上部，與濕區(qū)和管路區(qū)完全隔離；3槽體材料選用耐相應(yīng)溶液腐蝕的材料；4機械手探入濕區(qū)部分的零部件表面噴氟或套PFA管處理；5設(shè)備排風采用頂部百級FFU送新風，臺面下抽風，每套工藝清洗槽都有自動開閉的槽蓋，槽蓋下有單獨的抽風裝置，排風口處設(shè)有自動調(diào)節(jié)風門，即上電打開風門，斷電關(guān)閉風門，具有風壓檢測功能，以及氮氣、壓縮空氣壓力報警功能；6溶液槽中藥液自動供液按設(shè)定好比例混合，并可在工作過程中根據(jù)設(shè)定補液；客戶根據(jù)自身工藝條件自行設(shè)定；7臺面為多孔結(jié)構(gòu)，便于臺面上沖洗水、液的排出；8操作面設(shè)有透明PVC安全門；9設(shè)備設(shè)有漏電、急停、液位、過溫、安全門開、漏液、超時等保護和報警裝置，保證設(shè)備的安全可靠；10配備有進口PFA，水、氣槍各一。 更多半導體兆聲清洗機設(shè)備（最終清洗機設(shè)...
干燥系統(tǒng)-華林科納CSE適用于最大尺寸300mm晶圓的干燥技術(shù)優(yōu)點NID?干燥系統(tǒng)利用IPA和N2霧化分配，以及晶圓與水脫離時形成了表面張力干燥的技術(shù)適用于最大尺寸300mm晶圓的干燥技術(shù) 可單臺設(shè)備或整合在濕法設(shè)備中 最佳的占地 成熟的工藝 無水跡 無碎片應(yīng)用：拋光片、集成電路、MEMES、LED、光伏、玻璃基片一般特征： 可同時干燥25到50片直徑最大為300mm的晶圓 適用于標準高邊或低邊花籃規(guī)格：藝時間： 一般親水性晶圓片： ≤ 10 增加 @ 0.12 μm疏水性晶圓片： ≤ 30 增加 @ 0.12 μm金屬含量： 任何金屬≤ 1?1010 atoms / cm2 增加干燥斑點： 干燥后無斑點IPA 消耗量： ≤ 30 ml / run去邊緣： 3 mm一般安裝參數(shù)：尺寸: 660 x 1440 x 2200 (長 x 寬 x 高)標準電壓: 3 x 400 VAC額定功率: 50 Hz標準電流: 3 x 33 A培訓：操作、維護、工藝培訓標準： CE Semi S2 and S8 FM 4910 SECS/GEM可靠性： 平均故障間隔時間 ≥ 800 h 輔助平均間隔時間 ≥ 300 h 可運行時間 ≥ 97 %更多的干燥系統(tǒng)設(shè)備相關(guān)資訊可以關(guān)注華林科納CSE官網(wǎng)（www.126xa.cn），現(xiàn)在熱線咨詢400-8768-096可立即獲取免費的半導體清洗解決方案。
廢氣處理系統(tǒng)-華林科納（江蘇）CSE華林科納（江蘇）半導體CSE 的廢氣處理系統(tǒng)可處理氣體:酸性氣體、堿性氣體、其它特殊氣體，負壓范圍為:-500Pa 至 -1500Pa； 設(shè)備名稱華林科納（江蘇）CSE-廢氣處理系統(tǒng)系統(tǒng)說明1.可處理氣體:酸性氣體、堿性氣體、其它特殊氣體，負壓范圍為:-500Pa 至 -1500Pa；2.工藝穩(wěn)定,負壓波動在15%.3.電壓:380V，三相五線，8KW；4.采用英國廢氣處理系統(tǒng)工藝，CSE在原工藝上經(jīng)過升級改造，新的系統(tǒng)推出市場后，客戶反映效果較好；系統(tǒng)工作原理為酸性/堿性/其它特殊氣體處理系統(tǒng)，主要由以下幾大部分組成：負壓腔、正壓腔、初級錐形噴淋塔、三級噴淋凈化塔、高壓射流器、抽風孔、負壓動力泵、循環(huán)噴淋泵、電控系統(tǒng);廢氣經(jīng)過一級錐形噴淋塔進入負壓腔內(nèi)（每個噴淋塔中間為傘裝型噴頭，對廢氣層形成水封，瞬間中和廢氣）、通過射流器產(chǎn)生負壓把負壓腔內(nèi)的廢氣抽入正壓腔內(nèi)中和（在負壓腔與正壓腔之間設(shè)有三級噴淋凈化塔，三級噴淋凈化塔內(nèi)配有PP填料，配有噴嘴，再次充分噴淋中和廢氣）、處理完的氣通過正壓腔上的排氣口排出。成功案例河北普興電子有限公司上海新傲半導體有限公司上海硅酸鹽研究所中試基地蘇州納維科技有限公司設(shè)備制造商華林科納（江蘇）半導體設(shè)備有限公司 www.126xa.cn 400-8768-096 ；18913575037更多半導體行業(yè)廢氣處理系統(tǒng)可以關(guān)注華林科納（江蘇）半導體設(shè)備官網(wǎng)www.126xa.cn；現(xiàn)在咨詢400-8768-096，18913575037可立即免費獲取華林科納CSE提供的廢氣處理系統(tǒng)的相關(guān)方案。
GMP自動供液系統(tǒng)-華林科納（江蘇）CSEChemical Dispense System System 華林科納（江蘇）半導體CSE-GMP自動供液系統(tǒng) 適用對象：HF、HN03、KOH、NH4OH、NaOH、H2SO4、HCL、 H2O2、IPA等主要用途：本設(shè)備主要用于濕法刻蝕清洗等制程工程工序需要的刻蝕液集中進行配送，經(jīng)管道至設(shè)備；具有自動化程度高，配比精確，操作簡便等特點；具有良好的耐腐蝕性能?？刂颇Ｊ剑菏謩涌刂颇Ｊ?、自動控制模式設(shè)備名稱華林科納（江蘇）CSE-GMP自動供液系統(tǒng)設(shè)備型號CSE-CDS-N2601設(shè)計基準1.供液系統(tǒng)（Chemical Dispense System System）簡稱：CDS2. CDS 將設(shè)置于化學房內(nèi)：酸堿溶液CDS 系統(tǒng)要求放置防腐性的化學房；3. 設(shè)備材質(zhì)說明(酸堿類):酸堿溶液CDS外構(gòu)采以WPP 10T 板材，內(nèi)部管路及組件采PFA 451 HP 材質(zhì)；4. 系統(tǒng)為采以化學原液 雙桶/單桶20L、200L、1t等方式以Pump 方式運送到制程使用點；5. 過濾器：配有10” PFA材質(zhì)過濾器外殼；6. 供液泵：每種化學液體配有兩臺或者一臺 PTFE材質(zhì)的進口隔膜泵；7. Empty Sensor & Level Sensor：酸堿類采用一般型靜電容近接開關(guān)；8. 所有化學品柜、歧管箱及閥箱均提供泄漏偵測器與警報功能。CDS系統(tǒng)設(shè)備規(guī)格 1. 系統(tǒng)主要功能概述設(shè)備主要功能：每種化學液體配兩個桶（自動切換）、配兩臺泵（一用一備）、帶過濾器；系統(tǒng)控制單元：配帶OMRON 8”彩色觸摸屏，OMRON品牌PLC系統(tǒng)；2. 操作模式： CDS 系統(tǒng)皆有PLC 作Unit 內(nèi)部流程控制，操作介面以流程方式執(zhí)行，兼具自動化與親和力。在自動...
研磨液自動供液系統(tǒng)-華林科納（江蘇）CSEChemical Dispense System System 華林科納（江蘇）半導體CSE-研磨液自動供液系統(tǒng) 適用對象：HF、HN03、KOH、NH4OH、NaOH、H2SO4、HCL、 H2O2、IPA等主要用途：本設(shè)備主要用于濕法刻蝕清洗等制程工程工序需要的刻蝕液集中進行配送，經(jīng)管道至設(shè)備；具有自動化程度高，配比精確，操作簡便等特點；具有良好的耐腐蝕性能。控制模式：手動控制模式、自動控制模式設(shè)備名稱華林科納（江蘇）CSE-研磨液自動供液系統(tǒng)設(shè)備型號CSE-CDS-N2601設(shè)計基準1.供液系統(tǒng)（Chemical Dispense System System）簡稱：CDS2. CDS 將設(shè)置于化學房內(nèi)：酸堿溶液CDS 系統(tǒng)要求放置防腐性的化學房；3. 設(shè)備材質(zhì)說明(酸堿類):酸堿溶液CDS外構(gòu)采以WPP 10T 板材，內(nèi)部管路及組件采PFA 451 HP 材質(zhì)；4. 系統(tǒng)為采以化學原液 雙桶/單桶20L、200L、1t等方式以Pump 方式運送到制程使用點；5. 過濾器：配有10” PFA材質(zhì)過濾器外殼；6. 供液泵：每種化學液體配有兩臺或者一臺 PTFE材質(zhì)的進口隔膜泵；7. Empty Sensor & Level Sensor：酸堿類采用一般型靜電容近接開關(guān)；8. 所有化學品柜、歧管箱及閥箱均提供泄漏偵測器與警報功能。CDS系統(tǒng)設(shè)備規(guī)格 1. 系統(tǒng)主要功能概述設(shè)備主要功能：每種化學液體配兩個桶（自動切換）、配兩臺泵（一用一備）、帶過濾器；系統(tǒng)控制單元：配帶OMRON 8”彩色觸摸屏，OMRON品牌PLC系統(tǒng)；2. 操作模式： CDS 系統(tǒng)皆有PLC 作Unit 內(nèi)部流程控制，操作介面以流程方式執(zhí)行，兼具自動化與親和力。在自動...
SPM腐蝕清洗機設(shè)備——華林科納CSE華林科納CSE濕法處理設(shè)備是國內(nèi)最早致力于集成電路濕法設(shè)備的研制單位，多年來與眾多的集成電路生產(chǎn)企業(yè)密切合作，研制開發(fā)出適合于4吋-8吋的全自動系列濕法處理設(shè)備。其中SPM自動清洗系統(tǒng)設(shè)備主要用于LED芯片制造過程中硅片表面有機顆粒和部分金屬顆粒污染的自動清洗工藝。設(shè) 備 名 稱華林科納（江蘇）CSE-SPM腐蝕酸洗機適 用 領(lǐng) 域LED外延及芯片制造設(shè) 備 用 途硅晶片化學腐蝕和清洗的設(shè)備基 本 介 紹主要功能：通過對硅片腐蝕、漂洗、等方式進行處理，從而達到一個用戶要求的效果可處理晶圓材料：硅 砷化鎵 磷化銦 氮化鎵 碳化硅 鈮酸鋰 鉭酸鋰等被清洗硅片尺寸:2-8寸（25片/藍）設(shè)備形式：室內(nèi)放置型操作形式：自動設(shè)備制造商華林科納（江蘇）半導體設(shè)備有限公司 www.126xa.cn 400-8768-096；18913575037更多的全自動半導體SPM腐蝕清洗機設(shè)備相關(guān)資訊可以關(guān)注華林科納CSE官網(wǎng)（www.126xa.cn），現(xiàn)在熱線咨詢400-8798-096可立即獲取免費的半導體清洗解決方案。
全自動濕法去膠清洗機-華林科納（江蘇）CSE華林科納CSE濕法處理設(shè)備是國內(nèi)最早致力于集成電路濕法設(shè)備的研制單位，多年來與眾多的集成電路生產(chǎn)企業(yè)密切合作，研制開發(fā)出適合于4吋-8吋的全自動系列濕法處理設(shè)備 設(shè)備名稱華林科納（江蘇）CSE-全自動濕法去膠清洗機設(shè)備設(shè)備概況尺寸(參考)：約3500（L）*1500(W)*2000(H)（具體尺寸根據(jù)實際圖紙確定）清洗件規(guī)格：一次性可裝8寸晶片25pcs典型生產(chǎn)節(jié)拍：5～10min/籃（清洗節(jié)拍連續(xù)可調(diào)）門：不銹鋼合頁門+PVC視窗主題構(gòu)造特點設(shè)備由于是在一個腐蝕的環(huán)境，我們設(shè)備的排風方式，臺面下抽風，每套工藝清洗槽都有自動開閉的槽蓋，槽蓋下有單獨的抽風裝置。設(shè)備結(jié)構(gòu)外型，整機主要由機架、工藝槽體、機械手傳輸系統(tǒng)、排風系統(tǒng)、電控系統(tǒng)、水路系統(tǒng)及氣路系統(tǒng)等組成。由于工藝槽內(nèi)藥液腐蝕性強，設(shè)備需要做防腐處理：（1）設(shè)備機架采用鋼結(jié)構(gòu)骨架包塑；（2）殼體采用鏡面SUS316L不銹鋼焊接，制程區(qū)由耐腐蝕的SUS316L板材組合焊接而成：（3）電氣區(qū)設(shè)置在設(shè)備后上部，與濕區(qū)和管路區(qū)完全隔離；（4）槽體材料選用耐相應(yīng)溶液腐蝕的材料；（5）機械手探人濕區(qū)部分的零部件表面噴氟或套PFA管處理。應(yīng)用領(lǐng)域集成電路、聲表面波（SAW）器件、微波毫米波器件、MEMS器件、先進封裝等設(shè)備制造商華林科納（江蘇）半導體設(shè)備有限公司 www.126xa.cn 400-8768-096 ；18913575037更多全自動濕法去膠清洗機設(shè)備可以關(guān)注華林科納（江蘇）半導體設(shè)備官網(wǎng)www.126xa.cn；現(xiàn)在咨詢400-8768-096，18913575037可立即免費獲取華林科納CSE提供的全自動濕法去膠清洗機設(shè)備的相關(guān)方案
金屬剝離清洗機-華林科納（江蘇）CSE微機電系統(tǒng)（MEMS)是指用微機械加工技術(shù)制作的包括傳感器/微致動器/微能源/等微機械基本部分以及高性能的電子集成線路組成的微機電器件與裝置。其典型的生產(chǎn)工藝流程為：成膜工藝（氧化/CVD:LPCVD PECVD/PVD:濺射/電鍍/摻雜：擴散 注入 退火）→光刻圖形（旋涂/光刻/顯影）→干法/濕法/ 刻蝕（濕法刻蝕/硅刻蝕/SiO?刻蝕/去膠清洗/金屬刻蝕/金屬剝離/RCA清洗）設(shè)備名稱華林科納（江蘇）CSE-金屬剝離清洗機設(shè)備系列CSE-CX13系列設(shè)備概況尺寸(參考)：機臺尺寸 : 1750mmWx1400mmDx1900mmH（具體尺寸根據(jù)實際圖紙確定）清洗量：6寸25裝花籃2籃；重量：500Kg( 大約)；工作環(huán)境：室內(nèi)放置；主體構(gòu)造特點外 殼：不銹鋼304 板組合焊接而成。安全門：無安全門，采用敞開式設(shè)計；管路系統(tǒng)：藥液管路采用不銹鋼管，純水管路采用CL-PVC管；閥門：藥液管路閥門采用不銹鋼電磁閥門；排 風：后下抽風，動力抽風法蘭位于機臺上部；水汽槍：配有水氣槍各2把，分置于兩側(cè)；隔板：藥液槽之間配有隔離板，防止藥液交叉污染；照明：機臺上方配照明（與工作區(qū)隔離）；機臺支腳：有滑輪裝置及固定裝置，并且有高低調(diào)整及鎖定功能。三色警示燈置于機臺上方明顯處。工作槽參數(shù)剝離洗槽槽體：不銹鋼316，有效尺寸405×220×260mm；化學藥品：剝離洗液；藥液供液：人工手動加入；工作溫度：60℃并可調(diào)；溫度可調(diào)；加熱方式：五面體貼膜加熱/投入式加熱器加入熱；液位控制：采用N2背壓數(shù)位檢測； 計時功能：工藝時間可設(shè)定，并可調(diào)，到設(shè)定時間后聲鳴提示，點擊按鈕后開始倒序計時；批次記憶：藥液使用次數(shù)可記憶，藥液供入時間可記憶，設(shè)定次數(shù)和設(shè)定時間到后更換藥液；排液：排液管道材質(zhì)為不銹鋼管，按鈕控制；槽蓋：配有手動槽蓋；IPA槽...